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Nonsequitur 大束流離子源離子槍

簡要描述：Nonsequitur 大束流離子源離子槍
Ion Guns: Model 1404 5eV – 3keV 氣相離子源
聯系張經理：I872I868549

  • 產品型號：1404 5eV – 3keV
  • 廠商性質：代理商
  • 更新時間：2024-12-13
  • 訪  問  量：263

詳細介紹

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Nonsequitur 大束流離子源離子槍

Nonsequitur 大束流離子源離子槍

Model 1404設計特點：

高亮度電子沖擊離子源

連續可變光束能量，最多3kV

束流0-10uA

支持所有惰性氣體外加氮氣，可選氧氣功能，帶Thoria涂層燈絲

所有材料采用超高真空和耐腐蝕材料

配備可用于可變蝕刻區域和光束準直的冷凝器透鏡

配備用于計算機控制的USB接口和圖形用戶界面

Nonsequitur 大束流離子源離子槍

Nonsequitur公司的Model 1401離子源離子槍非常適合用于表面化學實驗，例如使用Auger 和ESCA進行樣品制備和深度分析，可以用于惰性氣體。

在工作距離為25mm，束流大小為20µA時，光斑為直徑0.4mm。相比較于其他的離子槍而言，離子槍Model 1401能提供的電流密度是其他離子槍的1-倍。當束流為1µA時，光斑最小可以選擇到50µm. 電子束能量可以在范圍5eV到5keV中選擇，并同時保持樣品的最佳聚焦。束流大小可以調節，并不受電子束能量的影響，無需外部設備，可以直接從前面板進行調節。

通過電子沖擊來生成離子，雙燈絲設計可以延長使用壽命，而無需中斷設備的使用。離子源的真空燈絲處于離軸狀態，以防止燈絲材料沉積到樣品上。

Nonsequitur 銫離子槍 堿性離子槍設計特點

  • 用戶可更換Frit離子源以產生各種離子

  • 光斑可調 75um to >1mm for spatially defined sputtering

  • 連續可變束流能量，最高 5keV

  • 使用光束彎曲光學元件進行中性種抑制

  • BTOF SIMS的光束消隱能力

  • 集成束流監控能力

  • 可選光束束電極

  • 采用適合超高真空和耐蝕刻的材料

  • 用于減小光斑尺寸的透鏡偏轉

  • 差速泵，以盡量減少主腔室氣體負載

  •  Ion Guns Model 1407 設計特點

  • 緊湊型離子源，雙等離子發射器

  • 可調節的束斑， ≥ 15µm ，用于空間定義的濺射

  • 可調節發射，提供穩定的束流，前面板可調動態范圍 x300

  • 連續可變電子束能量，最高達 5keV

  • 用于電子束掃描和校正的雙電極

  • 用于減小束斑大小的預目標透鏡偏轉

  • 集成束流大小監測

  • 燈絲不直接到樣品，避免不必要的樣品污染

  • 可更換電子束修剪孔徑板，典型使用壽命> 500 hours

  • 提供雙燈絲備份

  • 內部源壓力傳感器，允許監控離子源壓力

  • 采用適合超高真空和耐蝕刻的材料

  • 差速泵，以盡量減少主腔室氣體負載

  • 在惰性氣體下運行

  • Nonequitur李子源Model 1450設計特點

  • 可調節的光斑尺寸≥5um，用于空間定義的濺射或注入。發射調節轟擊提供穩定的離子電流。連續可變的束能5kV至50kV。雙八極用于束掃描和像散校正。預物鏡掃描可減小光斑尺寸。沒有直接的燈絲到樣品視線，以避免樣品污染?？蛻艨筛鼡Q的燈絲和束修整孔。雙燈絲在燈絲壽命結束時提供操作備份。制造中使用的所有UHV兼容和耐蝕刻材料。差分泵送可最大限度地減少主室氣體負載。在惰性氣體和氮氣范圍內工作


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