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美國 AP TECH 離子源 熱離子發射器 真空
美國 AP TECH 離子源 熱離子發射器 真空
美國 AP TECH,電子源,熱離子發射器 （TE）,陰極,六硼化鑭 （LaB6）,六硼化鈰 （CeBix®） 的 Sl.均 LaB6,CeBix®
數十年的研究、開發和電子源制造，對電子發射物理學的深入了解使其成為商用熱敏、場發射和熱場發射陰極生產商，這些產品用于顯微鏡、微量分析、X 射線生成、光刻、增材制造或任何其他需要高亮度源的電子束應用。
在熱離子狀態下工作的陰極被加熱到高溫。當電子有足夠的熱能來克服制造陰極的材料的功函數時，就會發生發射。
我們的熱離子陰極由六硼化鑭 （LaB6） 和六硼化鈰 （CeBix®） 的 Sl.均 LaB6和 CeBix® 是低功函數材料，可生產相對高亮度的陰極，有適度的真空要求和較長的保質期。這些陰極可在高達 20 A/cm 的電流密度下提供長期、穩定的運行2，使其成為 SEM、TEM、電子束滅菌、表面分析和計量等小光斑應用以及 X 射線生成、光刻和增材制造等大電流應用的理想選擇。
在 APT，制造自己的高質量單晶 LaB6和 CeBix® 內部使用一種工藝，生產市面上純凈和低的功函數材料。精煉后，硼化物可以定制成各種形狀，具有不同的加熱、安裝和底座配置，所有這些都旨在滿足客戶的操作和性能要求。
功函數略低于 LaB6，CeBix® 陰極在略低的工作溫度下產生更高的電流。因此，CeBix® 源的亮度略高，使用壽命更長。APT 是CeBix® 陰極商業生產商。
還可以提供 LaB6和 CeBix® 單晶棒和圓盤
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