追求合作共贏
Win win for you and me售前售中售后完整的服務體系
誠信經營質量保障價格合理服務完善做良心企業 創誠信品牌
NONSEQUITUR 雙等離子發射器離子槍離子源 氣相離子源ION GUNS MODEL 1407 氣相源HE, NE, AR, KR, XE 束斑可調節
50KEV光斑可調節離子源配備雙燈絲可集成濾波器MODEL 1450,具有可調光斑尺寸≥5 μm,用于空間定義的濺射或注入發射調節轟擊提供穩定的離子電流
美國 IK-TECHNOLOGIES 多探針分析系統:UHV 除了表面分析組件外,LK Technologies還專門設計和構建完整的特高壓系統,這些系統通常結合了LK組件和其他制造商的多種表面分析方法。
美國 IK-TECHNOLOGIES 熱解吸光譜儀TDS1000 我們的TDS1000是一個集成的系統工具,使用戶能夠以高靈敏度和定量校準獲得TPD光譜。
美國 IK-TECHNOLOGIES 電子槍 LK1000M 具有出色能量分辨率的電子源,針對高輸出電流進行了優化應用于逆UPS,EELS等電子碰撞實驗。
美國 IK-TECHNOLOGIES 電子能譜儀MINICMA™ 對固體表面進行微區成份分析及元素分布??蓱糜诎雽w材料、冶金、地質等部門。
美國 IK-TECHNOLOGIES 俄歇能譜儀 ELS3000 俄歇電子能譜(Auger electron spectroscopy,簡稱AES),是一種利用高能電子束為激發源的表面科學和材料科學的分析技術。
LK-TECHNOLOGIES 低能電子衍射儀(LEED)-RVL2000 的精密反向LEED低能電子衍射儀光學元件采用所有UHV結構,無需使用玻璃纖維或聚合物涂層線束。提供完整系列的型號和選件,包括低電流(nA,pA)MCP型號。