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美國 LK TECHNOLOGIES 電子槍 真空 LK1000M 唐:I582I984229
美國kimball physics EGH-6210電子槍系統 帶有匹配的 EGPS-4190 電源和 COPS-4190 柱光學裝置的 EMG-4193 電子槍是一個完整的子系統,可隨時連接到用戶的真空系統
美國kimball physics EMG-4193電子槍系統 Kimball Physics 電子槍,其設計用于各種超高真空 (UHV) 表面物理、空間物理和處理應用
美國kimball physics ELG-2電子槍系統 噴槍可聚焦小光斑,用于 X 射線生產、焊接和 RHEED 等應用;或用于泛光束,用于電荷中和、電子束洗滌、空間模擬和輻射損傷研究。
美國kimball physics EGPS-1011電子槍系統 Kimball Physics 電子槍,其設計用于各種超高真空 (UHV) 表面物理、空間物理和處理應用 聯系 龔經理 VX: yui231460 Call I8721868497
美國 IK-TECHNOLOGIES 電子槍 LK1000M 具有出色能量分辨率的電子源,針對高輸出電流進行了優化應用于逆UPS,EELS等電子碰撞實驗。