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| 品牌 | 其他品牌 | 應用領域 | 電子,航天,電氣,綜合 |
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美國 Nonsequitur 離子槍 真空 1403
美國 Nonsequitur 離子槍 真空 1403
高亮度電子沖擊源，可最大限度地去除塊狀材料
發射調節轟擊提供穩定的離子電流，前面板可調節動態范圍 x300
可調光斑尺寸從 20 毫米到 > 1 毫米，用于空間定義濺射
連續可變的離子束能量，最高可達 5keV
利用光束彎曲光學器件抑制中性物質
用于 TOF SIMS 的光束消隱功能
集成的束流監測功能
可更換的光束微調孔徑，典型使用壽命大于 500 小時
雙燈絲提供操作備份，燈絲壽命一般大于 500 小時
內部離子源壓力傳感器可監測離子源壓力
所有 UHV 兼容和抗蝕刻材料均用于制造
預瞄準透鏡偏轉可縮小光斑尺寸
差分泵送，最大限度地減少主腔氣體負荷
可在各種惰性氣體范圍內工作
參數信息
工作距離 35 毫米
中性物質抑制 3° 靜電彎曲光學器件
光束能量 ≤ 5keV 連續可變
光柵尺寸 4 x 4 毫米（最小值）
安裝法蘭 70 毫米（2.75 英寸）外徑 CF
差分泵 70 毫米（2.75 英寸）外徑 CF
供氣入口 34 毫米（1.33 英寸）外徑 CF
源氣體 He、Ne、Ar、Kr、Xe
烘烤溫度 最高 150 °C
Duoplasmatron Duoplasmatron Equavalent Ion Guns Model 1402 Model 1403 TOF/SIMS Model 1403Cs - Cesium/Alkali Ions Model 1404 Model 1407 Model 1420 Model 1450 Nonsequitur SIMS 二次離子質譜 雙等離子發射器 真空測試 真空系統 真空腔 真空表面化學實驗 離子槍 離子源 聚焦離子源 表面分析儀器
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